La litografia EUV è una tecnica avanzata di produzione dei semiconduttori che utilizza luce ultravioletta estrema a 13,5 nm per incidere pattern estremamente piccoli sui wafer di silicio. È essenziale per i chip di ultima generazione perché i metodi di litografia più vecchi non possono stampare in modo affidabile le caratteristiche dei transistor più piccole necessarie per i processori più avanzati.
Nel campo della sicurezza informatica, l'EUV è importante perché la capacità di produzione dei chip influenza chi può realizzare hardware all'avanguardia per l'IA, la crittografia e il calcolo ad alte prestazioni. Influisce anche sul rischio della catena di approvvigionamento: l'accesso agli strumenti EUV, ai materiali e al software di manutenzione può essere limitato, monitorato o preso di mira da spionaggio e sabotaggio. I difensori si interessano a questa tecnologia quando valutano l'affidabilità dei fornitori, l'esposizione ai controlli sulle esportazioni, la resilienza degli stabilimenti e l'integrità dei sistemi che controllano le apparecchiature di fabbricazione. Sebbene gli aggressori tocchino raramente l'EUV direttamente, possono prendere di mira l'ecosistema circostante - reti di ingegneria, file di progettazione, logistica o sistemi di controllo industriale - per interrompere la produzione o rubare conoscenze di processo sensibili.